Title:
減衰装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2014529043
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、システム、特にマイクロリソグラフィック投影露光装置における素子の振動エネルギーを消散させる減衰装置であって、減衰装置は安定な装着手段により素子（ 110、 210、 310、 410、 510、 610、 710）に対して装着された振動吸収体質量（ 115、 215、 315、 415、 515、 615、 715）を具えており、減衰装置では、振動吸収体質量（ 115、 215、 315、 415、 515、 615、 715）が素子内に存在する空洞内に配置されているとともに、空洞内に存在する流体（120、 220、 320、 420、 520、 620、 720）により少なくとも部分的に囲まれており、振動吸収体質量（ 115、 215、 315、 415、 515、 615、 715）により質量‐ばねシステムが形成され、質量‐ばねシステムは、振動吸収体質量（ 115、 215、 315、 415、 515、 615、 715）の連結点に存在する素子（ 110、 210、 310、 410、 510、 610、 710）の振動の並進運動成分を減衰させるようになっており、安定な装着手段は、電気的に制御しうる又は電界或いは磁界を介して制御しうるレオロジー流体で形成されている、減衰装置に関するものである。
Inventors:
マルクス ハウフ
Application Number:
JP2014523297A
Publication Date:
October 30, 2014
Filing Date:
July 30, 2012
Export Citation:
Assignee:
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
International Classes:
F16F15/02; F16F15/023; G03F7/20; H01L21/027; H01L21/68
Domestic Patent References:
| JPH08170990A | 1996-07-02 | |||
| JPS61162632U | 1986-10-08 |
Foreign References:
| US20040184631A1 | 2004-09-23 | |||
| US20040057817A1 | 2004-03-25 | |||
| US20080053763A1 | 2008-03-06 |
Attorney, Agent or Firm:
Kenji Sugimura
Ken-ichi Shimoji
Shin Tsubouchi
Ken-ichi Shimoji
Shin Tsubouchi