Title:
複数の排気ポートを含む基板処理装置及びその方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2014533442
Kind Code:
A
Abstract:
本発明の一実施例によると，基板に対する工程が行われる基板処理装置は，上部が開放され，一側に前記基板が出入する通路が形成される下部チャンバと，前記下部チャンバの開放された上部を閉鎖し，前記工程が行われる工程空間を提供する外部反応チューブと，一つ以上の前記基板が上下方向に積載され，前記基板ホルダ内に前記基板が積載される積載位置及び前記基板に対する前記工程が行われる工程位置に転換可能な基板ホルダと，前記外部反応チューブの内壁に沿って配置されて前記反応ガスを吐出する供給口を有する一つ以上の供給ノズルと，前記外部反応チューブの内壁に沿って配置されて前記工程空間内の未反応ガス及び反応副産物を吸入する排気口を有する一つ以上の排気ノズルと，前記排気ノズルに連結され，前記排気口を介して吸入した前記未反応ガス及び前記反応副産物を排出する後方排気ラインと，を含み，前記下部チャンバは，前記排気ノズルと前記後方排気ラインを連結する排気ポート及び前記下部チャンバの内部に形成された積載空間を前記後方排気ラインに連結する補助排気ポートを有する。【選択図】図４
Inventors:
ヤン，イル−クヮン
ジェ，ソン−テ
ソン，ビョン−ギュ
キム，ヨン−キ
キム，キョン−フン
シン，ヤン−シク
ジェ，ソン−テ
ソン，ビョン−ギュ
キム，ヨン−キ
キム，キョン−フン
シン，ヤン−シク
Application Number:
JP2014542245A
Publication Date:
December 11, 2014
Filing Date:
November 16, 2012
Export Citation:
Assignee:
ユ−ジーン テクノロジー カンパニー．リミテッド
International Classes:
H01L21/205; C23C16/44
Domestic Patent References:
| JPH10303147A | 1998-11-13 | |||
| JP2003017422A | 2003-01-17 | |||
| JPH02152224A | 1990-06-12 |
Attorney, Agent or Firm:
Masaaki Ogura