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Title:
正孔注入層および輸送層のための改善されたドーピング法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2015504446
Kind Code:
A
Abstract:
中性型の少なくとも1つの第一の化合物を少なくとも1つのイオンドーパントと第一の溶媒系中で組み合わせて、第一のドープされた反応生成物を提供する段階、固体型の第一のドープされた反応生成物を単離する段階、および、単離した第一のドープされた反応生成物を中性型の少なくとも1つの共役ポリマーと第二の溶媒系中で組み合わせて、共役ポリマーの酸化型、第一の化合物の中性型を含む第二のドープされた反応生成物を生成する段階を含む方法を開示する。長所には、より良い安定性、使用の容易さ、および低い金属含有量が含まれる。適用には、OLEDを含む有機電子デバイスが含まれる。

Inventors:
セシャドリ ベンカタ Lamaism -- nan (United States of America Pennsylvania Pittsburgh Balkan Drive 1100)
Chopra Nito (United States of America Pennsylvania Pittsburgh Riverfront Drive 1305)
Application Number:
JP2014534536A
Publication Date:
February 12, 2015
Filing Date:
October 03, 2012
Export Citation:
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Assignee:
3533899 Incorporated (United States of America Delaware Wilmington Orange Street 1209 Corporation Trust Center ザコーポ ration Trust company)
International Classes:
C08L65/00; C07D209/82; C07D487/22; C08F26/06; C08K5/18; C08K5/36; C08L25/18; C09K11/06; H01L29/786; H01L51/05; H01L51/30; H01L51/46; H01L51/50
Domestic Patent References:
JP2007327058A2007-12-20
JP2011516695A2011-05-26
JP2005248163A2005-09-15
JP2011513977A2011-04-28
JP2008214587A2008-09-18
JP2008214587A2008-09-18
JP2007327058A2007-12-20
JP2011516695A2011-05-26
JP2005248163A2005-09-15
JP2011513977A2011-04-28
Attorney, Agent or Firm:
Spring water Original aim
Masao Haruna
Hirotaka Yamaguchi
Shun Osakabe
Ryuichi Inoue
Toshimitsu Sato
Koichi Niimi
Tomohiko Kobayashi
Shin-ichi Watanabe
Masato Ozeki
Yoshihiro Igarashi
Kazuya Kawamoto