Title:
マスク
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2015507214
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、マスク、マスクの製造方法、光照射装置、光照射方法及び整列された光配向膜の製造方法に関するもので、本発明マスクを使用すれば、被照射体の表面に直進性が優れた光を均一な照度で照射することができる。また、本発明のマスクは、例えば、被照射体が曲面の場合にも効率的に光を照射することができる。【選択図】図１
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Inventors:
シン、ブ ゴン
Application Number:
JP2014544679A
Publication Date:
March 05, 2015
Filing Date:
December 03, 2012
Export Citation:
Assignee:
エルジー・ケム・リミテッド
International Classes:
G03F1/50; G02B5/30; G02F1/1337; G03F7/20
Domestic Patent References:
| JP2010060681A | 2010-03-18 | |||
| JP2008083215A | 2008-04-10 | |||
| JP2011081049A | 2011-04-21 | |||
| JPH04104666U | 1992-09-09 |
Attorney, Agent or Firm:
Ryuka international patent business corporation