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Title:
基板を処理するためのシステムと方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2015530478
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、コーティングされた基板を処理するシステムに関する。システムは、中空部を形成する気密に閉鎖可能なケーシングを有している、少なくとも一つの基板を収容する少なくとも一つの真空化可能なプロセスボックスと、冷却装置と結合可能なプロセスボックスのケーシングセクションを冷却する冷却装置と、プロセスボックスへの充填及び/又はプロセスボックスからの搬出を行う少なくとも一つの充填/搬出ユニットと、プロセスボックスにおける基板を加熱する少なくとも一つの加熱ユニットと、プロセスボックスにおける基板を冷却する少なくとも一つの冷却ユニットと、プロセスボックスの中空部をポンピングする少なくとも一つのポンプ装置と、プロセスボックスの中空部に少なくとも一種類のガスを供給する少なくとも一つのガス供給装置と、プロセスボックスと、加熱ユニット、冷却ユニット及び充填/搬出ユニットとの間の相対運動を行うように構成されている少なくとも一つの搬送機構とを有しており、ケーシングは、入射した電磁熱放射によって基板が熱処理されるように形成されている少なくとも一つのケーシングセクションと、そのケーシングを冷却する冷却装置と結合可能な少なくとも一つのケーシングセクションと、冷却装置と結合されていない少なくとも一つのケーシングセクションとを有している。中空部は、少なくとも一つの離隔壁によって、基板を収容するプロセス空間と中間空間とに分けられている。離隔壁は、一つ又は複数の開口部を有しており、また、基板と、冷却装置と結合されているケーシングセクションとの間に配置されている。ケーシングは、中空部に開口している、閉鎖可能な少なくとも一つのガス流路を有しており、このガス流路は中空部を真空化するため、またガスを中空部に導入するために使用される。

Inventors:
Stephan Joost
Martin Furfanger
Yeaak Palm
Application Number:
JP2015520963A
Publication Date:
October 15, 2015
Filing Date:
July 09, 2013
Export Citation:
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Assignee:
Saint-Gobain Glass France
International Classes:
C23C14/56; C23C14/58; H01L31/0749; H01L31/18
Domestic Patent References:
JP2003531489A2003-10-21
JP2011520273A2011-07-14
JP2015524998A2015-08-27
JP2003188229A2003-07-04
Foreign References:
WO2011130888A12011-10-27
US20120264072A12012-10-18
US20110117693A12011-05-19
US20050238476A12005-10-27
US5137063A1992-08-11
Attorney, Agent or Firm:
Einzel Felix-Reinhard
Takuya Kuno