Title:
ＥＵＶ光のためのターゲット材料プッシュアウトの事前補償
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2015532505
Kind Code:
A
Abstract:
レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）極紫外線（ＥＵＶ）システムからのエネルギ出力は、プラズマを１次焦点で生成するためにいかに良好にレーザビームがターゲット材料の液滴上にフォーカスされるかに基づいて変化する。液滴をバースト発射中に１次焦点で維持することは、先行する液滴からの生成されたプラズマが後続液滴を１次焦点から押し出すために困難である。液滴を１次焦点に再位置合わせする現在の液滴毎のフィードバック制御は、比較的時間を消費する。本明細書に説明するシステム及び方法は、液滴がレーザ照射された時に、液滴がプラズマを発生させるためにレーザビームによって１次焦点に押し込められるように液滴を１次焦点からオフセットしたターゲット位置に向けることにより、液滴プッシュアウトを適応的に事前補償する。時間と共に、ＥＵＶシステムは、プラズマが一貫して１次焦点内で発生されるように液滴位置のリアルタイム位置合わせを維持することを学習する。【選択図】図２
Inventors:
Van der burgt yerun
Graham Matthew Earl
Kinney Charles
Dunstan Wayne Jay
Graham Matthew Earl
Kinney Charles
Dunstan Wayne Jay
Application Number:
JP2015534494A
Publication Date:
November 09, 2015
Filing Date:
August 20, 2013
Export Citation:
Assignee:
AS M Netherlands B.V.
International Classes:
H05G2/00; G03F7/20
Domestic Patent References:
| JP2011003887A | 2011-01-06 | |||
| JP2012134447A | 2012-07-12 |
Foreign References:
| US20100258750A1 | 2010-10-14 |
Attorney, Agent or Firm:
Yoshiyuki Inaba
Toshifumi Onuki
Toshifumi Onuki