Title:
触媒反応用金属錯体を活性化する方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2015533647
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、酸化剤により金属カルボニルクラスターを活性化して、触媒速度増加を示す安定な金属クラスター触媒を調製することに関する。当該活性化は、例えば、カルボニル配位子の脱カルボニル化用酸素を使用すること、及び、他の配位子の酸化状態を変化させること、を含む。ある側面では、フローリアクター中での酸化条件下での金属クラスター触媒の処理は、ＣＯ配位子の除去及び結合カリザレンホスフィン配位子の酸化につながり、そして、結果として、エチレン水素化触媒反応にとってより活性な安定な活性化したオープン金属クラスターになる。その結果得られる金属クラスターは、カルボニル空孔を含む配位的に不飽和のサイトを含有する。ある側面では、その結果得られる活性化したオープン金属クラスターは、種々の化学変化での触媒として使用できる。
Inventors:
Katz, Alexander
Rannebaum, Ron, Cee.
Ocrat, alexander
Ouyang, Xiao Inn
Busy gin, igor
Rannebaum, Ron, Cee.
Ocrat, alexander
Ouyang, Xiao Inn
Busy gin, igor
Application Number:
JP2015539918A
Publication Date:
November 26, 2015
Filing Date:
October 29, 2013
Export Citation:
Assignee:
The Regents of The University of California
International Classes:
B01J37/14; B01J31/26; C07C5/03; C07C9/06
Attorney, Agent or Firm:
Asamura patent office