Title:
マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2016510425
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、ミラー装置によって反射された光の角度分布を変更する目的のために互いに独立に調節可能である複数のミラー要素を有する少なくとも１つのミラー装置（２００）と、定常的直線か又は円形の入力偏光分布を有する入射光に対して光ビーム断面にわたって連続的に変化する偏光方向を有する出力偏光分布を発生させる偏光影響光学要素（１１０，２１０−２１２，３１０，４１１，４１２，５１０，６１０，７１０）とを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系に関する。【選択図】図１
Inventors:
Zenger Ingo
Hennakes Kristov
Hennakes Kristov
Application Number:
JP2015554099A
Publication Date:
April 07, 2016
Filing Date:
January 09, 2014
Export Citation:
Assignee:
Carl Zeiss SGM Gaehha
International Classes:
G03F7/20; G02B1/02; G02B5/30; G02B19/00
Foreign References:
| WO2011154227A1 | 2011-12-15 | |||
| WO2011147658A1 | 2011-12-01 | |||
| US20110228247A1 | 2011-09-22 | |||
| WO2012169089A1 | 2012-12-13 | |||
| US20080192225A1 | 2008-08-14 | |||
| US20050195480A1 | 2005-09-08 |
Attorney, Agent or Firm:
Koichi Tsujii
Sadao Kumakura
Fumiaki Otsuka
Takaki Nishijima
Hiroyuki Suda
Hiroshi Uesugi
Naoki Kondo
Yoshinori Kishi
Sadao Kumakura
Fumiaki Otsuka
Takaki Nishijima
Hiroyuki Suda
Hiroshi Uesugi
Naoki Kondo
Yoshinori Kishi