Title:
表面の残留物を除去するための洗浄配合物
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017502129
Kind Code:
A
Abstract:
本開示は、１）ＨＦと、２）置換または非置換ホウ酸と、３）アンモニウムサルフェートと、４）少なくとも１種類の金属腐食抑制剤と、５）水と、を含有し、６）金属イオンを含まない塩基である少なくとも１種類のｐＨ調整剤を含んでいてもよい、洗浄組成物に関する。本開示は、半導体基板を洗浄するために上記組成物を使用する方法にも関する。
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Inventors:
Near, Emir A.
Application Number:
JP2016539104A
Publication Date:
January 19, 2017
Filing Date:
December 09, 2014
Export Citation:
Assignee:
Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc.
International Classes:
C11D7/08; C11D7/10; C11D7/26; C11D7/28; C11D7/32; C23G1/06; H01L21/304
Domestic Patent References:
| JP2011228618A | 2011-11-10 | |||
| JP2013101224A | 2013-05-23 | |||
| JP2008053374A | 2008-03-06 | |||
| JP2007019506A | 2007-01-25 | |||
| JP2005165263A | 2005-06-23 | |||
| JP2013533631A | 2013-08-22 | |||
| JP2008547202A | 2008-12-25 | |||
| JP2010265547A | 2010-11-25 | |||
| JP2010515246A | 2010-05-06 |
Foreign References:
| WO2013101907A1 | 2013-07-04 |
Attorney, Agent or Firm:
Atsushi Nakajima
Kato Kazunori
Kato Kazunori