Title:
データ処理装置を用いたリソグラフィ装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017509016
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】スループットに悪影響を与えることなく高い解像度のウェーハ高さマップを生成しウェーハレベル位置合わせ性能を向上させる。【解決手段】リソグラフィ装置は、光学投影システムを用いて基板上にパターンを適用する。本装置は、パターン適用の前に基板表面の高さマップを得るための光学レベルセンサ及び関連したプロセッサを含む。コントローラは、パターンを適用する場合に高さマップを用いて投影システムの合焦を制御する。プロセッサは、基板に以前適用された処理に関する情報を用いて基板の少なくとも第１・第２の領域を画定するように、且つ、測定信号を用いて焦点を制御する方法を第１・第２の領域で変動させるように、構成される。例えば光学測定信号から高さ値を計算するためのアルゴリズムを既知の構造及び／又は材料の相違に応じて変動させ得る。特定の領域からの測定値を高さマップの計算から及び／又は合焦での使用から選択的に除外し得る。【選択図】図５
Inventors:
Schmidt-Weaver, Emil, Peter
Henke, Wolfgang
Prentiss, Christopher
Frank Stalls
Tell, win, tejibo
Henke, Wolfgang
Prentiss, Christopher
Frank Stalls
Tell, win, tejibo
Application Number:
JP2016552539A
Publication Date:
March 30, 2017
Filing Date:
December 17, 2014
Export Citation:
Assignee:
AS M Netherlands B.V.
International Classes:
G03F9/02; G01B11/02
Domestic Patent References:
| JP2009239274A | 2009-10-15 | |||
| JP2008160110A | 2008-07-10 | |||
| JPH0945608A | 1997-02-14 | |||
| JP2000323404A | 2000-11-24 | |||
| JP2009188385A | 2009-08-20 | |||
| JP2013110398A | 2013-06-06 | |||
| JP2011040661A | 2011-02-24 | |||
| JPH0878317A | 1996-03-22 | |||
| JPH0837149A | 1996-02-06 | |||
| JP2007515806A | 2007-06-14 | |||
| JP2005354073A | 2005-12-22 | |||
| JP2007273955A | 2007-10-18 | |||
| JPH11176735A | 1999-07-02 | |||
| JP2006308842A | 2006-11-09 | |||
| JP2007194419A | 2007-08-02 |
Attorney, Agent or Firm:
Yoshiyuki Inaba
Toshifumi Onuki
Toshifumi Onuki