Title:
フレキシブル基板を処理するための装置、及びその処理チャンバを洗浄するための方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017509798
Kind Code:
A
Abstract:
本開示によれば、フレキシブル基板を処理するための装置が提供される。装置は、処理チャンバと、処理チャンバの中にあり、フレキシブル基板を支持するように構成されたコーティングドラムと、処理チャンバの中に配置された一又は複数の堆積源と、処理チャンバ内部に提供され、コーティングドラムと一又は複数の堆積源との間でシールド箔を移動させるように構成されたシャッターデバイスとを備える。【選択図】 図１Ａ
Inventors:
Reese, Florian
Sauer, Andreas
Neil Morrison
Stray, Tobias
Sauer, Andreas
Neil Morrison
Stray, Tobias
Application Number:
JP2016559548A
Publication Date:
April 06, 2017
Filing Date:
April 04, 2014
Export Citation:
Assignee:
APPLIED MATERIALS,INCORPORATED
International Classes:
C23C16/44; C23C14/00; C23C14/56; C23C16/54
Domestic Patent References:
| JP2000239849A | 2000-09-05 |
Foreign References:
| US5215589A | 1993-06-01 | |||
| DE102012209051A1 | 2013-12-05 | |||
| US20110065282A1 | 2011-03-17 |
Attorney, Agent or Firm:
Sonoda/Kobayashi Patent Business Corporation