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Title:
マイクロリソグラフィ投影露光装置のミラー
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017509920
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーに関する。本発明の一態様によれば、ミラーは、光学有効面を有し、ミラーは、所定の使用波長を有し且つ表面法線に対して65°以上の入射角で光学有効面に入射する電磁放射線に関して、少なくとも0.5の反射率を有し、ミラーは、第2周期元素及び4d遷移族元素の化合物を含む少なくとも1つの層(160、170、320)を有し、ミラーは、光学有効面の方向で最上部に配置された保護層(430、530、630、730)を有し、光学有効面の方向で保護層の下にそれぞれ配置された層(420、510、620、705)の材料が、保護層(430、530、630、730)の材料よりも低吸収である。

Inventors:
Hartmut Enquiche
Application Number:
JP2016556940A
Publication Date:
April 06, 2017
Filing Date:
February 19, 2015
Export Citation:
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Assignee:
Carl Zeiss SGM Gaehha
International Classes:
G03F7/20; G02B5/08; G02B19/00
Domestic Patent References:
JP2003303756A2003-10-24
JP2005268359A2005-09-29
JP2006317913A2006-11-24
Foreign References:
WO2012126867A12012-09-27
Attorney, Agent or Firm:
Kenji Sugimura
Groundwork Kenichi
Tsubouchi Shin