Title:
シルセスキオキサン複合高分子およびその製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017512231
Kind Code:
A
Abstract:
加工性と物理的な特性を極大化したシルセスキオキサン複合高分子に関するものである。一つの高分子内に特定の構造の線形シルセスキオキサンの鎖、複合型の鎖およびcage形シルセスキオキサンを含めて加工性および物理的特性を極大化したシルセスキオキサン複合高分子を提供する。
Inventors:
Chosun Seok
Yu Jae Won
Nam Dong Jin
Kim Tu Sik
Park Kyung Min
Fan Jung Won
Osung Young
Choji Sik
Yu Jae Won
Nam Dong Jin
Kim Tu Sik
Park Kyung Min
Fan Jung Won
Osung Young
Choji Sik
Application Number:
JP2016553894A
Publication Date:
May 18, 2017
Filing Date:
February 27, 2015
Export Citation:
Assignee:
DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
International Classes:
C08G77/44; C08G77/06; C08G77/54; C09D7/12; C09D183/04
Domestic Patent References:
| JPH10251407A | 1998-09-22 | |||
| JPS59108033A | 1984-06-22 | |||
| JP2003510337A | 2003-03-18 | |||
| JP2003137944A | 2003-05-14 | |||
| JPS60258517A | 1985-12-20 | |||
| JP2004143449A | 2004-05-20 | |||
| JP2000212284A | 2000-08-02 |
Foreign References:
| WO2017187716A1 | 2017-11-02 |
Other References:
宮嶋 達也: "29Si NMR法による含ケイ素材料の構造解析", 旭硝子研究報告, vol. 66, JPN6020016525, 2016, pages 33 - 2, ISSN: 0004268923
Attorney, Agent or Firm:
Kenji Sugimura
Makoto Fukuo
Masaaki Ishikawa
Makoto Fukuo
Masaaki Ishikawa