Title:
プロセスチャンバを洗浄する方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017517865
Kind Code:
A
Abstract:
本開示は、容量結合型プラズマリアクタのプロセスチャンバを洗浄する方法に関するものである。この方法は、ａ）プロセスチャンバ内に体積で８０〜１００％の不活性ガスを含むガスを導入する工程であり、該不活性ガスは、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、及び、それらの組み合わせから成る群から選ばれる、該工程と、ｂ）前記不活性ガスからプラズマを形成して、それによって前記プロセスチャンバを洗浄する工程と、を含む。【選択図】図１
Inventors:
Ji Tahara
Radisic Dougna
Radisic Dougna
Application Number:
JP2016554185A
Publication Date:
June 29, 2017
Filing Date:
March 17, 2015
Export Citation:
Assignee:
IMEC VZW
International Classes:
H01L21/3065; C23C14/00; C23C16/44; H05H1/46
Attorney, Agent or Firm:
Yoshiki Hasegawa
Yoshiki Kuroki
Junji Kashiwaoka
Yoshiki Kuroki
Junji Kashiwaoka