Title:
エレクトロクロミック装置及び当該装置を形成するための方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017520808
Kind Code:
A
Abstract:
本発明の実施形態は、一般に、エレクトロクロミックデバイス、並びにこのようなエレクトロクロミックデバイス及び材料を形成させるための材料及びプロセスを提供する。一実施形態では、エレクトロクロミックデバイスは、基材上に配置された下部透明導電体層を含み、該下部透明導電体層の上部表面は５０ｎｍより大きい表面粗さを有し、平坦化特性を有する第１エレクトロクロミック層は下部透明導電体層上に配置される。該第１エレクトロクロミック層の上部表面は、下部透明導電体層の上部表面の表面粗さよりも小さい、例えば、約５０ｎｍ以下の表面粗さを有する。エレクトロクロミックデバイスは、該第１エレクトロクロミック層上に配置されたイオン伝導体層と、該イオン伝導体層上に配置された第２エレクトロクロミック層と、該第２エレクトロクロミック層上に配置された上部透明導電体層と、該上部透明導電体層上に配置された反射防止層とをさらに含む。
Inventors:
NGUYEN,Paul,Phong
Application Number:
JP2017522317A
Publication Date:
July 27, 2017
Filing Date:
July 11, 2014
Export Citation:
Assignee:
NGUYEN,Paul,Phong
International Classes:
G02F1/153; G02F1/157; G02F1/1524
Domestic Patent References:
| JP2012523019A | 2012-09-27 | |||
| JP2002311450A | 2002-10-23 | |||
| JP2013101309A | 2013-05-23 | |||
| JP2007101885A | 2007-04-19 | |||
| JP2009169229A | 2009-07-30 | |||
| JPS6353523A | 1988-03-07 | |||
| JP2002520654A | 2002-07-09 |
Foreign References:
| US5900275A | 1999-05-04 | |||
| WO2014072138A1 | 2014-05-15 |
Attorney, Agent or Firm:
Axis International Patent Business Corporation