Title:
液浸リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017522618
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】投影システムの外表面に材料を効率的に設けるための装置及び方法を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法が開示される。一つの構成においては投影システム（ＰＳ）を備える液浸リソグラフィ装置が提供される。投影システムは、パターン形成された放射ビームを液浸液を通じて基板の目標部分に投影するよう構成されている。投影システムの外表面が第１表面（１０２）を備える。第１表面は非平面形状を有する。要素（１０６）は、第１表面に取り付けられ、当該要素の少なくとも一部分が液浸液と使用時に接触するよう配置されている。要素は、予め形成された状態で第１表面の非平面形状に一致する連続的に一体化した材料の閉じた環を備える。【選択図】図４
Inventors:
Polette, Theodorus, Wilhelms
Baselmans, Johannes, Jacobs, Mateus
Bowman, Willem, Yang
Rempens, Han, Henrix, Arde Honda
Modderman, Theodorus, Marinus
Lops, Cornelius, Maria
Smeets, Baltic
Stephen, Cohen
Van der ham, ronald
Baselmans, Johannes, Jacobs, Mateus
Bowman, Willem, Yang
Rempens, Han, Henrix, Arde Honda
Modderman, Theodorus, Marinus
Lops, Cornelius, Maria
Smeets, Baltic
Stephen, Cohen
Van der ham, ronald
Application Number:
JP2017524096A
Publication Date:
August 10, 2017
Filing Date:
June 26, 2015
Export Citation:
Assignee:
AS M Netherlands B.V.
International Classes:
G03F7/20
Domestic Patent References:
| JP2012142625A | 2012-07-26 | |||
| JP2010258446A | 2010-11-11 | |||
| JP2009194385A | 2009-08-27 | |||
| JP2009004777A | 2009-01-08 | |||
| JP2009164573A | 2009-07-23 |
Attorney, Agent or Firm:
Sakaki Morishita
Takeshi Aoki
Takeshi Aoki