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Title:
真空を生成するための圧送システムおよびこの圧送システムによる圧送方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017531125
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、真空を生成するための圧送システム(SP)に関し、この圧送システムは、真空チャンバ(1)に連結されたガス吸い込み入口(2)と、圧送システムの外側のガスエグゾースト出口(8)の方向においてガス真空排気導管(5)内に至るガスディスチャージ出口(4)とを有する乾式スクリューポンプ(3)である主真空ポンプを備える。この圧送システムは、ガスディスチャージ出口(4)とガスエグゾースト出口(8)との間に位置する逆止め弁(6)と、逆止め弁に並列に連結された補助真空ポンプ(7)と、をさらに備える。この圧送システムによる圧送方法において、真空チャンバ(1)に含まれるガスを圧送してこれらのガスをそのガスディスチャージ出口(4)を通して排出するために主真空ポンプ(3)を始動し、補助真空ポンプ(7)も同時に始動する。さらに、主真空ポンプ(3)が真空チャンバ(1)に含まれるガスを圧送している間じゅうおよび/または主真空ポンプ(3)が真空チャンバ(1)内の所定の圧力を維持している間じゅう、補助真空ポンプ(7)が圧送し続ける。

Inventors:
ミュラー,ディディエ
ラルヒャー,ジーン-エリック
イルチェフ,セオドア
Application Number:
JP2017516050A
Publication Date:
October 19, 2017
Filing Date:
September 26, 2014
Export Citation:
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Assignee:
アテリエ ビスク ソシエテ アノニム
Atelier Busch SA
International Classes:
F04C25/02; F04B45/00; F04C23/00; F04C28/02
Domestic Patent References:
JP2007100562A2007-04-19
JP2003139055A2003-05-14
JP2002339864A2002-11-27
Attorney, Agent or Firm:
井ノ口 壽



 
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