Login| Sign Up| Help| Contact|

Patent Searching and Data


Title:
TWC触媒とSCR−HCT触媒を用いるエミッション処理システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017533093
Kind Code:
A
Abstract:
炭化水素、一酸化炭素、及び窒素酸化物を含む内燃機関の排気流のためのエミッション処理システムが提供される。開示されたシステムは、排気マニホールドを介して内燃機関と流体連通する排気管;前記排気管内の内燃機関の下流に配置された第1の三元変換触媒(TWC−1);選択的接触還元触媒及び排気管内のTWC−1の下流の炭化水素トラップを含むSCR−HCT触媒;及び前記排気管内のSCR−HCTコンビネーションの下流の第3の触媒を含んでいてよく、前記第3の触媒は、例えば炭化水素を酸化するのに有効な量で白金族金属(PGM)を含む。このようなシステムとその構成要素を作り且つ使用する方法も提供されている。

Inventors:
Xiao Lai Zhen
Chun Shinji
Wen-Meishue
Matthew Shrad
Xiao Ming One
Tian Luo
Michael diva
Knut Wassermann
Application Number:
JP2017522007A
Publication Date:
November 09, 2017
Filing Date:
October 21, 2015
Export Citation:
Click for automatic bibliography generation   Help
Assignee:
BASF Corporation
International Classes:
B01J29/80; B01D53/94; B01J23/63; B01J35/04; F01N3/08; F01N3/10; F01N3/20; F01N3/24; F01N3/28
Attorney, Agent or Firm:
Einzel Felix-Reinhard
Morita Taku
Junichi Maekawa
Hiroyasu Ninomiya
Ueshima