Title:
少なくとも1つのマニピュレータを有する投影露光装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2017536579
Kind Code:
A
Abstract:
マイクロリソグラフィのための投影露光装置(10)は、マスク構造を結像するための投影レンズ(22)と、移動に沿って光学要素の特性を操作することにより、投影レンズの少なくとも1つの光学要素(E1〜E4)の光学効果を変更するように構成された少なくとも1つのマニピュレータ(M1〜M4)と、少なくとも1つのマニピュレータのための移動指令(50)を発生させるための移動確立デバイス(40)とを含む。この場合に、移動確立デバイス(40)は、最初に、少なくとも1つの作業変数(48)を用いて最適化アルゴリズム(42)を実行することによって投影レンズの第1の状態特徴付け(64a)から第1の移動指令を発生させるように構成され、最適化アルゴリズム(42)は、最適化の行程において作業変数の値を変更し、かつ最適化の終了時に存在する作業変数(48)の値を伝達値として保存するように構成される。移動確立デバイス(40)は、最適化アルゴリズムの繰り返し実行により、第1の状態特徴付けに対して更新された投影レンズの更なる状態特徴付け(64a)から更なる移動指令(50)を発生させ、かつこの工程において、保存された伝達値を少なくとも1つの作業変数(48)の開始値として使用するように更に構成される。【選択図】図2
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Inventors:
Bitner Boris
Liszt Stefan
Liszt Stefan
Application Number:
JP2017526899A
Publication Date:
December 07, 2017
Filing Date:
November 13, 2015
Export Citation:
Assignee:
Carl Zeiss SGM Gaehha
International Classes:
G03F7/20; G02B17/06
Domestic Patent References:
JP2012212884A | 2012-11-01 | |||
JP2005327769A | 2005-11-24 | |||
JP2013229602A | 2013-11-07 |
Foreign References:
WO2014131889A1 | 2014-09-04 | |||
WO2014139896A2 | 2014-09-18 | |||
WO2014139543A1 | 2014-09-18 | |||
WO2008089898A1 | 2008-07-31 |
Attorney, Agent or Firm:
Shinichiro Tanaka
Disciple Maru Ken
▲吉▼田 和彦
Fumiaki Otsuka
Takaki Nishijima
Hiroyuki Suda
Hiroshi Uesugi
Naoki Kondo
Hiroshi Oura
Disciple Maru Ken
▲吉▼田 和彦
Fumiaki Otsuka
Takaki Nishijima
Hiroyuki Suda
Hiroshi Uesugi
Naoki Kondo
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