Title:
プロトン供与体とプロトン受容体を有する多面体オリゴマー型シルセスキオキサンを含む炭化水素系ナノ複合膜及びその製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2018529792
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、プロトン供与体（ｐｒｏｔｏｎ ｄｏｎｏｒ）を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）とプロトン受容体（ｐｒｏｔｏｎ ａｃｃｅｐｔｏｒ）を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサンがスルホン基を有する芳香族炭化水素高分子膜に導入されたプロトン伝導性ナノ複合膜及びその製造方法に関するものである。本発明のナノ複合膜には、プロトン供与体を有するＰＯＳＳとププロトン受容体を有するＰＯＳＳが共に添加されており、発生したプロトン（陽イオン）がイオンチャンネル内で水素結合を介して簡単にホッピング（ｈｏｐｐｉｎｇ）されてイオン導電率が増加している。また、本発明に使われたＰＯＳＳは、その大きさが非常に小さくて高分子膜内のイオンチャンネルでのプロトンの移動をほとんど妨害しないため、優れたプロトン導電率を実現することができる。また、本発明によるプロトン伝導性ナノ複合膜は高分子膜のスルホン化度が増加しても優れた機械的強度を示す。【選択図】 なし
Inventors:
Lee Hee Wu
Kim Sang Woo
Yang Tae Yang
Kim Sang Woo
Yang Tae Yang
Application Number:
JP2018501975A
Publication Date:
October 11, 2018
Filing Date:
March 15, 2016
Export Citation:
Assignee:
SOGANG UNIVERSITY RESEARCH FOUNDATION
International Classes:
C08J5/18; C08L71/08; C08L81/06; C08L83/04; H01B1/06; H01B13/00; H01M8/1025; H01M8/1037; H01M8/1046
Domestic Patent References:
| JP2007112906A | 2007-05-10 | |||
| JP2005339961A | 2005-12-08 |
Attorney, Agent or Firm:
Mitsuru Inoue
Satoshi Nazuka
Satoshi Nazuka