Title:
反射ファセットを有するビーム偏向装置を備えた多開口撮像装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2018532145
Kind Code:
A
Abstract:
キャリア基板が多開口撮像装置のために用いられる場合に、ビーム偏向装置が低コストでかつ多開口撮像装置の光学品質を劣化させずに製造し得るという事実が使用される。そのキャリア基板は複数の光学チャネルに対して共通であり、多開口撮像装置における画像センサに対して傾斜するように、設定角度を持って構成される。それにより、各光学チャネルの光路を偏向する偏向角度が、一方では前記設定角度に依存し、他方では画像センサに対向するビーム偏向装置の表面の反射ファセットのキャリア基板に対する個々の傾斜角度に依存しており、この反射ファセットは光学チャネルに割り当てられている。【選択図】 図1
Inventors:
Frank Wippelman
Brennell, Andreas
Breuer, Andreas
Oberdelstel, Alexander
Brennell, Andreas
Breuer, Andreas
Oberdelstel, Alexander
Application Number:
JP2018509613A
Publication Date:
November 01, 2018
Filing Date:
August 18, 2016
Export Citation:
Assignee:
Fraunhofer-Gesellschaft Tool Felderung del Angewanten Forsung Eingetler Genel Fehlein
International Classes:
G03B19/07; G02B5/09; G02B7/02; G02B7/04; G02B27/22; G03B5/00; G03B15/00; H04N5/225; H04N5/232
Domestic Patent References:
JP2008180773A | 2008-08-07 | |||
JP2002171430A | 2002-06-14 | |||
JP2000321410A | 2000-11-24 | |||
JP2002131518A | 2002-05-09 |
Foreign References:
WO2014062481A1 | 2014-04-24 | |||
US20110102872A1 | 2011-05-05 | |||
DE102014213371B3 | 2015-08-06 | |||
US20090268081A1 | 2009-10-29 |
Attorney, Agent or Firm:
Hidetaka Tsutsui