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Title:
高周波数超音波に対する膜ハイドロホンおよび製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2018534800
Kind Code:
A
Abstract:
高周波数超音波を分析するための膜ハイドロホンが、膜の表面上に作成される電極パターンを伴う圧電膜を有する。一実施形態では、電極パターンは、ハイドロホンの活性面積を除いて、膜の各側上で二重になる。一実施形態では、電極は、レーザパルスを用いて膜上の導電性コーティングを除去することによって形成される。レーザは、活性面積内の電極を正確に整合させるために、膜の同一の側からの圧電膜から導電性コーティングを除去するように設定される。一実施形態では、ハイドロホンの活性面積は、900〜10,000平方ミクロンの範囲内の面積を有する。

Inventors:
Chagall, Nicholas Christopher
Ivanitzky, Oleg
Bread, Guofen
Moszynski, Marius
Application Number:
JP2018508742A
Publication Date:
November 22, 2018
Filing Date:
August 18, 2016
Export Citation:
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Assignee:
Fujifilm Sonosite Inc.
International Classes:
H04R17/00; A61B8/14; G01H11/08; H01L41/09; H01L41/113; H01L41/193; H01L41/253; H01L41/257; H01L41/29; H04R1/44; H04R31/00
Attorney, Agent or Firm:
Atsushi Nakajima
Kato Kazuho