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Patent Searching and Data


Title:
磁気パルスのシーケンスによる上皮の完全性の向上
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2019502500
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、最大３Ｔの振幅を有する磁気パルスの連続によって上皮層の完全性の低下または透過性の増加に関連する状態を非侵襲的に処置する方法を提供し、この状態は、特に、角膜のバリア機能の低下に関連する眼の状態である。本発明は、絶対値で２００Ｔ／秒を超える変化率を示すパルスの連続を生成して組織の処置を行う装置を提供する。

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Inventors:
Carmel, Tomel
Cher-Rosenthal, Ifat
Rotenstreich, Egal
Ronen, Itsyk
Application Number:
JP2018538723A
Publication Date:
January 31, 2019
Filing Date:
December 28, 2016
Export Citation:
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Assignee:
Epitech MAG Limited
International Classes:
A61F9/007
Foreign References:
US20100249488A12010-09-30
WO2014181327A12014-11-13
Attorney, Agent or Firm:
Asamura patent office



 
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