Title:
合成材料の環状薄膜を製造するための方法およびその方法を実施するための装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2019525001
Kind Code:
A
Abstract:
本発明では、マイクロ波プラズマ活性化化学気相成長によって基板上に合成材料を生成するための方法が開示される。この方法は、トロイダル形状を有するプラズマを提供するように構成されたマイクロ波プラズマ反応器を提供するステップを含む。反応器は、共振空洞と、好ましくは環形状の基板または環状構成に配置された複数の基板を保持するように配置された基板ホルダとを備える。反応器が作動しているとき、これは、トロイダル形状を有し、基板に位置合わせされ近接したプラズマを形成し、その後、合成硬質材料のリングを基板の成長面上に成長させる。本発明はまた、ダイヤモンドなどの環形状の硬質材料で被覆される少なくとも１つの基板に面するトロイダル形状を有するプラズマを提供するように構成されたプラズマ反応器によっても達成される。
Inventors:
Rats, David
Namun, Medi
Provins, Christoph
Namun, Medi
Provins, Christoph
Application Number:
JP2019503528A
Publication Date:
September 05, 2019
Filing Date:
July 18, 2017
Export Citation:
Assignee:
Neocoat Society Anonym
International Classes:
C23C16/511; H01L21/31; H05H1/46
Domestic Patent References:
| JP2004128090A | 2004-04-22 | |||
| JP2001332541A | 2001-11-30 | |||
| JPH0744905A | 1995-02-14 | |||
| JP2016506450A | 2016-03-03 | |||
| JP2016015496A | 2016-01-28 | |||
| JP2016113303A | 2016-06-23 |
Foreign References:
| WO2006123524A1 | 2006-11-23 | |||
| US5078823A | 1992-01-07 | |||
| WO2009096515A1 | 2009-08-06 | |||
| US5169676A | 1992-12-08 |
Other References:
F SILVA ET AL.: "Microwave engineering of plasma-assisted CVD reactors for diamond deposition", J.PHYS.,CONDENS.MATTER., vol. 21, JPN6021028848, 2009, ISSN: 0004717997
Attorney, Agent or Firm:
Asamura patent office