Title:
放射分析システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2019536076
Kind Code:
A
Abstract:
互いに離間した２つのマークを含むターゲットであって、放射によって照明されたときに熱膨張するように構成されたターゲットと、マークの離間における変化を測定するように構成された位置測定システムと、測定されたマークの離間における変化を使用して放射のパワーを決定するように構成されたプロセッサとを備える、放射分析システム。【選択図】 図３
Inventors:
Van de Kerkhof, Marcus, Adrianis
Application Number:
JP2019519765A
Publication Date:
December 12, 2019
Filing Date:
October 02, 2017
Export Citation:
Assignee:
AS M Netherlands B.V.
International Classes:
G03F7/20; G03F1/62
Domestic Patent References:
| JP2015233105A | 2015-12-24 | |||
| JP2004246030A | 2004-09-02 | |||
| JP2015524163A | 2015-08-20 | |||
| JP2001028320A | 2001-01-30 | |||
| JP2012104670A | 2012-05-31 |
Attorney, Agent or Firm:
Yoshiyuki Inaba
Toshifumi Onuki
Akihiko Eguchi
Kazuhiko Naito
Toshifumi Onuki
Akihiko Eguchi
Kazuhiko Naito