Title:
物理的気相堆積処理システムのターゲットの冷却
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2020504244
Kind Code:
A
Abstract:
物理的気相堆積ターゲットアセンブリと、物理的気相堆積ターゲットアセンブリを冷却する方法が開示されている。例示のターゲットアセンブリは、注入端部と排出端部とに流体接続されている複数の列部と湾曲部とを含む流れパターンを含む。【選択図】図5
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Inventors:
One, Way W.
Shah, Cartique
Sunday, Biswas Kumar
Shah, Cartique
Sunday, Biswas Kumar
Application Number:
JP2019539191A
Publication Date:
February 06, 2020
Filing Date:
January 16, 2018
Export Citation:
Assignee:
APPLIED MATERIALS,INCORPORATED
International Classes:
C23C14/34
Domestic Patent References:
JPS5956738U | 1984-04-13 | |||
JP2000068234A | 2000-03-03 | |||
JP2002220661A | 2002-08-09 | |||
JP2009062593A | 2009-03-26 |
Attorney, Agent or Firm:
Sonoda/Kobayashi Patent Business Corporation