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Title:
オブジェクト表現のための技術
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2020505690
Kind Code:
A
Abstract:
本出願は、製造されるオブジェクトの表現を生成するための技術を説明する。体積要素世界のような設計空間におけるオブジェクトのシミュレーション製造を含む方法が開示されている。シミュレーション製造は、製造プロトコル、オブジェクト設計プロトコル、および少なくとも１つの境界条件のうちの１つ以上に基づき得る。【選択図】図４ａ

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Inventors:
Dochia, vimel
Flynn, Joseph
Escin, Wesley
Application Number:
JP2019538434A
Publication Date:
February 20, 2020
Filing Date:
January 09, 2018
Export Citation:
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Assignee:
UNIVERSITY OF BATH
International Classes:
G06F30/10; B33Y50/00; G06F30/23; G06F30/27
Domestic Patent References:
JP2007041630A2007-02-15
JP2014149818A2014-08-21
Foreign References:
US20150269290A12015-09-24
Other References:
KAVEH A.,ET AL.: "STRUCTURAL TOPOLOGY OPTIMIZATION USING ANT COLONY METHODOLOGY", ENGINEERING STRUCTURES, vol. VOL:30, NR:9, JPN5020003566, September 2008 (2008-09-01), GB, pages 2559 - 2565, ISSN: 0004631489
Attorney, Agent or Firm:
Hatta International Patent Corporation



 
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