Title:
高解像度の電子ビーム装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2020529702
Kind Code:
A
Abstract:
電子ビーム装置において磁気銃レンズと静電銃レンズが用いられることができ、走査電子顕微鏡、レビューおよび／または検査用途に利用可能な全ての電子ビーム電流向けの高解像度の提供を補助できる。抽出されたビームは磁気銃レンズを用いてビーム制限アパーチャを介してウェハに向けられ得る。電子ビームはさらに、ビーム制限アパーチャを通過した後で静電銃レンズを通って通過できる。
Inventors:
Shinlong Jiang
Sears christopher
Sears christopher
Application Number:
JP2020503802A
Publication Date:
October 08, 2020
Filing Date:
July 24, 2018
Export Citation:
Assignee:
KLA Corporation
International Classes:
H01J37/065; H01J37/06; H01J37/063; H01J37/073; H01J37/28
Domestic Patent References:
| JP2015531984A | 2015-11-05 | |||
| JP2006216396A | 2006-08-17 | |||
| JPS58201240A | 1983-11-24 |
Foreign References:
| US8859982B2 | 2014-10-14 | |||
| US7821187B1 | 2010-10-26 |
Attorney, Agent or Firm:
Patent Corporation yki International Patent Office