Title:
ポリカルボシランを含んでなるシリコンカーバイド質膜形成組成物、およびそれを用いたシリコンカーバイド質膜の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2020530043
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】埋め込み性に優れ、より低温で成膜でき、かつ製造された膜の電気特性が優れたものとなる、ポリカルボシランを含む組成物が提供。【解決手段】ポリカルボシランおよび溶媒を含んでなるシリコンカーバイド質膜形成組成物であって、前記ポリカルボシランの１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおける、３．６０〜５．５０ｐｐｍの面積強度に対する、３．９２〜４．２０ｐｐｍの面積強度の比率が、２７〜５０％である、組成物。
Inventors:
Sataya Okamura
Application Number:
JP2020504206A
Publication Date:
October 15, 2020
Filing Date:
August 07, 2018
Export Citation:
Assignee:
Merck Patent GmbH
International Classes:
C08L83/16; C01B32/977; C08G77/60; H01L21/312
Domestic Patent References:
| JPS51126300A | 1976-11-04 | |||
| JP2018037641A | 2018-03-08 | |||
| JP2011079917A | 2011-04-21 | |||
| JPS5863724A | 1983-04-15 |
Attorney, Agent or Firm:
Yukitaka Nakamura
Satoru Asakura
Hideaki Maekawa
Endo Ayako
Satoru Asakura
Hideaki Maekawa
Endo Ayako