Title:
水処理工程
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2020533163
Kind Code:
A
Abstract:
同時に、シリカ及びスケール形成イオンを含有する天然水または廃水からシリカを除去して、その全硬度を低減させる工程が、記載されている。工程は、層状複水酸化物をｉｎ ｓｉｔｕ作成するためにｐＨ＞８のｐＨを維持しつつ、（ｉ）水酸化マグネシウムまたは水酸化マグネシウムの前駆体と、（ｉｉ）可溶性アルミン酸化合物またはアルミン酸塩の前駆体と、を前記水に添加することを含み、そこで、前記層状複水酸化物が、前記層状複水酸化物の格子中にスケール形成イオンを含み、シリカは、層間アニオンとして前記層状複水酸化物の前記格子中に含有される、及び／または１つ以上の結合様式を介して前記層状複水酸化物により結合される。【選択図】なし
Inventors:
Grant Douglas
Application Number:
JP2020513835A
Publication Date:
November 19, 2020
Filing Date:
September 06, 2018
Export Citation:
Assignee:
COMMONWEALTH SCIENTIFIC AND INDUSTRIAL RESEARCH ORGANISATION
International Classes:
C02F1/28; B01J20/12; C01F7/00; C02F1/42; C02F1/60; C02F1/68
Domestic Patent References:
| JP2012106227A | 2012-06-07 | |||
| JPH04506932A | 1992-12-03 |
Foreign References:
| WO2013153587A1 | 2013-10-17 | |||
| WO2002010104A1 | 2002-02-07 |
Attorney, Agent or Firm:
Atsushi Aoki
Shinji Mitsuhashi
Naori Kota
Satoshi Deno
Masatoshi Takahashi
Shinji Mitsuhashi
Naori Kota
Satoshi Deno
Masatoshi Takahashi