貫流構成体

Japanese Patent JP2020534474

A

本発明は、メイン流れ方向（ＭＦＤ）に沿ってプロセス流体（ＰＦＦ）が貫流可能な構成体（ＡＲＧ）であって、構成体が、軸線（Ｘ）周りに所定の回転方向（ＲＴＤ）において回転可能なインペラ（ＩＭＰ）と、インペラ（ＩＭＰ）の下流に配置されかつガイドベーン（ＶＮＥ）を備える静止ディフューザ（ＤＦＦ）と、を備え、インペラ（ＩＭＰ）は、実質的に軸方向の流入のための入口（ＩＬＩ）と、実質的に径方向の流出のための出口（ＥＸＩ）と、を有し、インペラ（ＩＭＰ）のホイールディスク（ＨＷＩ）とカバーディスク（ＳＷＩ）との間に、径方向および軸方向に延在するインペラベーン（ＢＬＤ）が配置されており、前記ベーンは、周方向（ＣＤＲ）においてインペラ流路（ＩＣＨ）を互いに画定し、ディフューザ（ＤＦＦ）は、メイン流れ方向（ＭＦＤ）に沿って実質的に径方向に延在し、ディフューザ（ＤＦＦ）は、軸方向のカバーディスク側（ＳＷＳ）と、軸方向のホイールディスク側（ＨＷＳ）と、を有し、軸方向のカバーディスク側と軸方向のホイールディスク側とは、軸方向のカバーディスク側と軸方向のホイールディスク側との間でディフューザ（ＤＦＦ）の軸方向の流路幅（ＳＡＣ）を画定し、ディフューザ（ＤＦＦ）は、実質的に径方向の流入のためのディフューザ入口（ＩＮＤ）と、ディフューザ出口（ＥＸＤ）と、を有し、ディフューザ（ＤＦＦ）のホイールディスク側（ＨＷＳ）とカバーディスク側（ＳＷＳ）との間に、ベーン垂直方向に沿って軸方向にかつ貫流方向に沿って径方向に延在するガイドベーン（ＶＮＥ）が配置されており、前記ベーンは周方向（ＣＤＲ）においてガイドベーン流路（ＨＣＮ）を互いに画定する、構成体に関する。本発明によれば、それぞれの軸方向ベーン高さに対する入口縁部角（ＬＥＡ）が、それぞれのガイドベーン（ＶＮＥ）の入口縁部（ＤＬＥ）において翼形中心線（ＢＷＬ）に接する入口縁部接線（ＴＬＶ）と、入口縁部を通過する周方向接線（ＣＴＧ）と、の間の角として定義されており、入口縁部角（ＬＥＡ）はカバーディスク側において、ホイールディスク側におけるよりも小さい。

WO/2018/116722	SILENCING DEVICE, ROTARY MACHINE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SILENCING DEVICE
JP2005511936	Pump with shaft duct
JP2008038619	PRESSURIZING CENTRIFUGAL PUMP

Uwe Martens
Nico Petri

JP2020516527A

November 26, 2020

August 20, 2018

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Siemens Actien Gezelshaft

F04D29/44; F04D29/24; F04D29/30

JPS5469811A	1979-06-05
JP2010540817A	2010-12-24

EP2778431A2

2014-09-17

Yasuhiko Murayama
Shinya Mitsuhiro

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