Title:
ＯＤＨ反応器の下流の汚れを除去する方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2021505388
Kind Code:
A
Abstract:
酸化的脱水素（ＯＤＨ）反応器（３）の下流に位置する水溶性の汚れ（７）を防止又は除去する方法について説明する。この方法は、連続的又は断続的に、汚損場所の上流に水の導入を採用し、汚損物質を可溶化して運び去るように作用する。この方法には、ＯＤＨプロセスの実行中に使用できるという利点があり、コストのかかる運転停止の必要性が回避される。
Inventors:
Symanzenkov, Vasily
Shahin, Guadalznia
Kim, Yunhi
Cravel, Eric
Shahin, Guadalznia
Kim, Yunhi
Cravel, Eric
Application Number:
JP2020550936A
Publication Date:
February 18, 2021
Filing Date:
December 03, 2018
Export Citation:
Assignee:
Nova Chemicals (International) Society Anonym
International Classes:
B08B9/032; B08B3/08
Domestic Patent References:
| JP2011001341A | 2011-01-06 | |||
| JP2009202053A | 2009-09-10 | |||
| JP2006142254A | 2006-06-08 | |||
| JPS63300133A | 1988-12-07 | |||
| JP2017533919A | 2017-11-16 | |||
| JP4012818B2 | 2007-11-21 | |||
| JP2016172721A | 2016-09-29 |
Foreign References:
| WO2015087668A1 | 2015-06-18 | |||
| WO2002011912A1 | 2002-02-14 |
Attorney, Agent or Firm:
Asamura patent office