Title:
プラズマ処理システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP3161426
Kind Code:
U
Abstract:
【課題】プラズマ発生用の電極のクリーニングに要する時間を短縮するとともに、人手による手間を減らすことができ、且つ粉塵環境での作業による人体への悪影響を防止できるプラズマ処理システムを提供する。【解決手段】基板１，２，３を載置した搬送トレイ３１，３２，３３を主加熱部１５により加熱し、基板１，２，３にプラズマ処理をする処理室１１と、搬送トレイ３１，３２，３３を順次処理室１１に搬送させる搬送制御手段、主加熱部１５に処理室１１内を冷却させる冷却制御手段、及び主加熱部１５に処理室１１内を加熱させる加熱制御手段を有する制御装置１００とを備え、８０℃〜３５０℃のクリーニング温度において、基板が載置されていない状態で搬送トレイ３１，３２，３３を処理室１１内に順次搬送させ、クリーニング終了後、主加熱部１５に処理室１１内を稼働温度まで加熱させる。【選択図】図１
Inventors:
Ryudai Taguchi
Application Number:
JP2010003287U
Publication Date:
July 29, 2010
Filing Date:
May 19, 2010
Export Citation:
Assignee:
SHIMADZU CORPORATION
International Classes:
H01L21/31; H01L21/3065
Attorney, Agent or Firm:
Hidekazu Miyoshi
Masakazu Ito
Suzuki Isobe
Masakazu Ito
Suzuki Isobe