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Patent Searching and Data


Title:
フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物及びフォトレジストパターン形成方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP4222700
Kind Code:
B2
Inventors:
李 根守
高 次元
鄭 載昌
鄭 ▲みん▼鎬
白 基鎬
Application Number:
JP37115799A
Publication Date:
February 12, 2009
Filing Date:
December 27, 1999
Export Citation:
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Assignee:
株式会社ハイニックスセミコンダクター
HYNIX SEMICONDUCTOR INC.
International Classes:
G03F7/004; G03F7/027; C07C69/753; C07D519/00; C08F220/16; C08F222/06; C08F232/04; G03F7/039; C08F290/02
Domestic Patent References:
JP2869166B2
JP2000038391A
JP11286469A
JP11349637A
JP2000086726A
JP10218947A
JP11327147A
JP11258802A
JP2000122290A
Attorney, Agent or Firm:
荒船 博司
荒船 良男