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Title:
高分子化合物及びポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP4305637
Kind Code:
B2
Inventors:
畠山 潤
草木 渉
武田 隆信
Application Number:
JP2003175034A
Publication Date:
July 29, 2009
Filing Date:
June 19, 2003
Export Citation:
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Assignee:
信越化学工業株式会社
International Classes:
C08F212/14; G03F7/039; C08F232/08; C08F234/02; H01L21/027
Domestic Patent References:
JP2002202610A
JP2003084440A
JP2004061794A
Attorney, Agent or Firm:
小島 隆司
重松 沙織
小林 克成