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Title:
ポジ型レジスト組成物およびそれに用いる重合体、並びにレジストパターン形成方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP4307663
Kind Code:
B2
Inventors:
羽田 英夫
岩井 武
藤村 悟史
片島 美和
Application Number:
JP34343299A
Publication Date:
August 05, 2009
Filing Date:
December 02, 1999
Export Citation:
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Assignee:
東京応化工業株式会社
International Classes:
G03F7/039; H01L21/027; C07C69/753; C08F222/06; C08F232/00; C08L35/00; C08L45/00; G03F7/004
Domestic Patent References:
JP2000186118A
JP10161313A
JP2001125270A
JP2000292917A
Attorney, Agent or Firm:
棚井 澄雄
志賀 正武
青山 正和
鈴木 三義
柳井 則子