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Title:
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP5095048
Kind Code:
B2
Inventors:
西 恒寛
渡辺 武
畠山 潤
金生 剛
長谷川 幸士
橘 誠一郎
Application Number:
JP2000342815A
Publication Date:
December 12, 2012
Filing Date:
November 10, 2000
Export Citation:
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Assignee:
信越化学工業株式会社
International Classes:
C08F232/00; G03F7/039; C08G61/08; C08G61/12; C08K5/00; C08L45/00; C08L65/00; G03F7/38; H01L21/027
Domestic Patent References:
JP200026541A
Foreign References:
WO1997033198A1
WO1999014635A1
WO1999042510A1
WO1999042502A1
Attorney, Agent or Firm:
小島 隆司
重松 沙織
小林 克成
石川 武史



 
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