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Patent Searching and Data


Title:
パターン形成方法、上層膜形成用組成物、及び下層膜形成用組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JP5136417
Kind Code:
B2
Inventors:
杉田 光
松村 信司
清水 大輔
甲斐 敏之
下川 努
Application Number:
JP2008527723A
Publication Date:
February 06, 2013
Filing Date:
July 27, 2007
Export Citation:
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Assignee:
JSR株式会社
International Classes:
G03F7/38; C08F212/04; C08F232/08; C08G77/04; G03F7/038; G03F7/075; H01L21/027
Domestic Patent References:
JPH10104848A
JPH05150459A
JPH10104848A
Attorney, Agent or Firm:
渡邉 一平
木川 幸治
菅野 重慶