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Patent Searching and Data


Title:
液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP5222804
Kind Code:
B2
Inventors:
稲部 陽樹
漢那 慎一
高橋 表
神田 博美
Application Number:
JP2009159317A
Publication Date:
June 26, 2013
Filing Date:
July 03, 2009
Export Citation:
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Assignee:
富士フイルム株式会社
International Classes:
G03F7/004; C08F216/14; C08F220/06; C08F220/28; C08F222/06; C08F232/04; C08F234/02; G03F7/039; G03F7/38; H01L21/027
Domestic Patent References:
JP2003255539A
JP2003122018A
JP2003337419A
JP2003337416A
JP2003215806A
JP2003255542A
JP2003147023A
Attorney, Agent or Firm:
高松 猛
尾澤 俊之
長谷川 博道



 
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