Title:
シリコン基板の洗浄方法および太陽電池の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP5295437
Kind Code:
B2
Inventors:
Yoichiro Nishimoto
Nozomi Yasunaga
Takayoshi Matsuda
Nozomi Yasunaga
Takayoshi Matsuda
Application Number:
JP2012553112A
Publication Date:
September 18, 2013
Filing Date:
March 15, 2012
Export Citation:
Assignee:
Mitsubishi Electric Corporation
International Classes:
H01L21/306; H01L31/04
Domestic Patent References:
| JP2010074102A | 2010-04-02 | |||
| JP2008124413A | 2008-05-29 |
Foreign References:
| WO2009054076A1 | 2009-04-30 |
Other References:
JPN6013022064; 西本陽一郎: '結晶系Ｓｉ太陽電池のテクスチャー形成技術' 産業洗浄技術情報誌 Ｎｏ．６, 201009, ｐｐ．１３-１７
JPN6013022066; 西本陽一郎: 'ウェットエッチングによるテクスチャー形成技術' クリーンテクノロジー ｖｏｌ．２０，Ｎｏ．２, 201002, ｐｐ２２-２５
JPN6013022066; 西本陽一郎: 'ウェットエッチングによるテクスチャー形成技術' クリーンテクノロジー ｖｏｌ．２０，Ｎｏ．２, 201002, ｐｐ２２-２５
Attorney, Agent or Firm:
Hiroaki Sakai