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Title:
感活性光線性又は感放射線性組成物、それを用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP5793489
Kind Code:
B2
Inventors:
横川 夏海
川端 健志
滝沢 裕雄
椿 英明
平野 修史
Application Number:
JP2012261119A
Publication Date:
October 14, 2015
Filing Date:
November 29, 2012
Export Citation:
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Assignee:
富士フイルム株式会社
International Classes:
G03F7/039; C08F12/24; C08F22/20
Domestic Patent References:
JP2000241975A
JP2011175230A
JP2007052151A
JP2004348014A
Foreign References:
WO2011093520A1
Attorney, Agent or Firm:
高松 猛
尾澤 俊之
長谷川 博道