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Title:
パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、及び、電子デバイスの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP6496804
Kind Code:
B2
Inventors:
高田 暁
平野 修史
望月 英宏
高橋 年哉
福原 敏明
Application Number:
JP2017502058A
Publication Date:
April 10, 2019
Filing Date:
February 10, 2016
Export Citation:
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Assignee:
富士フイルム株式会社
International Classes:
G03F7/039; C08F12/02; C08F22/20; G03F7/20
Domestic Patent References:
JP2014041326A
JP2014041329A
JP2012133211A
JP2014041328A
JP2010256419A
JP2010013627A
JP2007254495A
Attorney, Agent or Firm:
蔵田 昌俊
野河 信久
河野 直樹
井上 正
鵜飼 健
飯野 茂