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Title:
レーザ加工用光源及びレーザ加工装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP6843219
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】複数の種類のパルス光列を選択的に出射することが可能なレーザ加工用光源及びレーザ加工装置を提供する。【解決手段】レーザ加工用光源２は、レーザ発振部２１と、第１光生成部２２と、第２光生成部２３と、制御部２４と、を備える。レーザ発振部２１は、パルス光列Ｌ１を出射する。第１光生成部２２は、パルス光列Ｌ１に対して、分波、複数の光路での伝播、及び合波を実施することで、複数のパルス光列Ｌ２を含むパルス光列Ｌ３を生成する。第２光生成部２３は、パルス光列Ｌ３において、複数のパルス光列Ｌ２から少なくとも１つのパルス光列Ｌ２を選択することで、少なくとも１つのパルス光列Ｌ２を含むパルス光列Ｌ４を生成する。制御部２４は、第２光生成部２３を制御する。制御部２４は、パルス光列Ｌ３において、複数のパルス光列Ｌ２から少なくとも１つのパルス光列Ｌ２を選択するための制御信号Ｃを第２光生成部２３に送信する。【選択図】図２

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Inventors:
Takeda Kaoru
Shingo Oishi
Fukuoka Odake
Application Number:
JP2019234727A
Publication Date:
March 17, 2021
Filing Date:
December 25, 2019
Export Citation:
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Assignee:
Hamamatsu Photonics Co., Ltd.
International Classes:
H01S3/10; B23K26/0622; H01S3/00
Domestic Patent References:
JP2014514754A
JP2008503877A
JP11221684A
Foreign References:
WO2011115243A1
Attorney, Agent or Firm:
Yoshiki Hasegawa
Yoshiki Kuroki
Kenichi Shibayama



 
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