Title:
Ｘ線照射システム、Ｘ線照射方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP7445812
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】比較的簡単な構成で、流体に対して連続的かつ均一にＸ線を照射することができるＸ線照射システムを提供する。【解決手段】流体にＸ線を照射するＸ線照射システムであって、Ｘ線を出射するＸ線装置と、平面状の載置部と、前記Ｘ線を前記載置部に照射するように前記Ｘ線装置を前記載置部の鉛直上部に保持する保持部とを含む載置台と、均一な所定の空洞断面で所定の長さを有する柱状流通路と、を備え、前記柱状流通路を前記載置部に所定の面積を有して面的に載置し、前記所定の面積の大きさで、前記柱状流通路を流通する液状媒体へのＸ線照射量をコントロールすることを特徴とする。【選択図】 図１
Inventors:
Hironori Sawayanagi
Shinya Ishigami
Yoshi Matsunaga
Shinya Ishigami
Yoshi Matsunaga
Application Number:
JP2023135944A
Publication Date:
March 07, 2024
Filing Date:
August 24, 2023
Export Citation:
Assignee:
Hitachi Power Solutions Co., Ltd.
International Classes:
G21K5/02; G21K5/10
Domestic Patent References:
| JP2023029327A | ||||
| JP2018148938A | ||||
| JP2002526169A |
Foreign References:
| US20170369335 | ||||
| US6083387 | ||||
| US4400270 |
Attorney, Agent or Firm:
Polaire Patent Attorneys Corporation