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Title:
含フッ素重合体の製造方法およびフォトレジスト組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2004035641
Kind Code:
A1
Abstract:
含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位および/または重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得るフッ素原子を含んでいてもよい単量体に由来する構造単位を有し、かつ重合体中に酸で反応する酸反応性基Y1または酸反応性基Y1に変換可能な基Y2を有する含フッ素重合体を得るに当たり、該含フッ素エチレン性単量体および/または該重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体を式(1):(式中、R50、R51は同じかまたは異なり炭素数1〜30のエーテル結合を含んでも良い炭化水素基(ただし、結合末端の原子は酸素原子ではない)、p1、p2は同じかまたは異なる0または1、p3は1または2)で示される有機パーオキサイドを用いてラジカル重合することを特徴とする真空紫外光の透明性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法および得られた重合体を含むフォトレジスト組成物を提供する。該含フッ素重合体は、真空紫外領域における透明性に優れ、フォトレジスト用として、特にF2レジスト用として超微細パターンを形成することができる。

Inventors:
荒木 孝之
石川 卓司
高 明天
鳥海 実
Application Number:
JP2004544954A
Publication Date:
February 16, 2006
Filing Date:
October 15, 2003
Export Citation:
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Assignee:
ダイキン工業株式会社
International Classes:
C08F232/04; C08F4/32; C08F4/34; C08F8/00; C08F214/18; G03C1/492; G03F7/004; G03F7/039; H01L21/027
Attorney, Agent or Firm:
朝日奈 宗太
秋山 文男