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Title:
カルボン酸アミド誘導体及びその製造方法、並びに洗浄剤組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2005063686
Kind Code:
A1
Abstract:
アミドエステルの含有量の少ないカルボン酸アミド誘導体及びその製造方法、並びに該カルボン酸アミド誘導体を含み、低温安定性に優れた洗浄剤組成物の提供。脂肪酸エステルに対し、ジアミンを1.20〜1.60のモル比で反応させてカルボン酸アミドを合成するカルボン酸アミド合成工程を含み、アミドエステルを0.02〜0.18質量%含有するカルボン酸アミドの製造方法により製造されたカルボン酸アミドと、過酸化水素とを反応させるカルボン酸アミド誘導体の製造方法。前記カルボン酸アミドとモノハロアルキルカルボン酸及びその塩のいずれかとを反応させるカルボン酸アミド誘導体の製造方法。該カルボン酸アミド誘導体の製造方法により製造されるカルボン酸アミド誘導体。該カルボン酸アミド誘導体を含む洗浄剤組成物。カルボン酸アミド誘導体がアミドアミンオキシド、アミドベタインである態様等が好ましい。

Inventors:
矢島 敏夫
川島 晶子
Application Number:
JP2005516586A
Publication Date:
October 11, 2007
Filing Date:
December 21, 2004
Export Citation:
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Assignee:
ライオン・アクゾ株式会社
International Classes:
C07C231/02; A61K8/42; A61Q5/02; A61Q19/10; C07C233/36; C07C291/04; C11D1/52; C11D1/75; C11D1/90
Domestic Patent References:
JP2003292412A2003-10-15
JPH06293620A1994-10-21
Attorney, Agent or Firm:
廣田 浩一
流 良広
松田 奈緒子