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Title:
フォトレジスト用重合性化合物、その重合体及び該重合体を含むフォトレジスト組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2006123605
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明は、高い基板密着性があり、現像時の膨潤が低減し、かつ水中での露光時に取り込む水の量が低く、ドライエッチング耐性が高い一般式(1)又は(19)で表される脂環式構造及び重合性基を有する重合性化合物、その重合体及び該重合性化合物の製造方法並びに該重合体を含むフォトレジスト組成物を提供する。【化1】【化2】

Inventors:
畠山 直良
伊藤 克樹
大野 英俊
松本 信昭
Application Number:
JP2007516274A
Publication Date:
December 25, 2008
Filing Date:
May 15, 2006
Export Citation:
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Assignee:
出光興産株式会社
International Classes:
C07C69/54; C07D307/33; C07D307/93; C08F20/10; C08F32/00; C08F38/00; G03F7/039
Attorney, Agent or Firm:
大谷 保
東平 正道