Title:
基板洗浄装置、基板洗浄方法、基板処理システムならびに記録媒体
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2007080707
Kind Code:
A1
Abstract:
基板洗浄装置（４０）は、洗浄槽（７０）と、洗浄槽（７０）内に回転自在に設けられ、被処理基板（Ｗ）を保持する保持台（５１）と、保持台（５１）を回転させる回転駆動部（５２）とを備えている。保持台（５１）の周外方には、当該保持台（５１）に保持された被処理基板（Ｗ）の周縁部に沿って薬液を貯留してこの被処理基板（Ｗ）の周縁部を薬液に浸すための薬液貯留部（５３）が設けられている。薬液貯留部（５３）には、当該薬液貯留部（５３）に薬液を供給する薬液供給部（５４）が接続されている。さらに、保持台（５１）に保持された被処理基板（Ｗ）の周縁部を摺擦するブラシ（５５ｄ）が設けられている。
Inventors:
Kazuhisa Matsumoto
Application Number:
JP2007553842A
Publication Date:
June 11, 2009
Filing Date:
November 20, 2006
Export Citation:
Assignee:
東京エレクトロン株式会社
International Classes:
H01L21/304; G02F1/1333; H01L21/027
Domestic Patent References:
| JPH0645302A | 1994-02-18 | |||
| JPH09308868A | 1997-12-02 | |||
| JPH10229062A | 1998-08-25 | |||
| JPH09190991A | 1997-07-22 | |||
| JPH09223681A | 1997-08-26 |
Attorney, Agent or Firm:
Kenji Yoshitake
Hiroyuki Nagai
Junpei Okada
Hiroki Kashima
Hiroyuki Nagai
Junpei Okada
Hiroki Kashima