Login| Sign Up| Help| Contact|

Patent Searching and Data


Title:
有機減衰材料
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2008075604
Kind Code:
A1
Abstract:
複合化することなく、単独で優れた減衰性を有し、十分な減衰性能を確保するために一定の厚みや体積の制限がなく、しかも加工の容易な有機減衰材料に関し、ポリマーマトリックス相中に、ｐ−（ｐ−トルエンスルホニルアミド）ジフェニルアミン、４，４’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）ジフェニルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、及びＮ，Ｎ’−ジ−２−ナフチル−ｐ−フェニレンジアミンから選択された１種若しくは２種以上の化合物からなる分散相を有することを特徴とする。

More Like This:
JPS5228504METHODE FOR MANUFACTURING A LIQUID FUEL
JP2011089119BASE GENERATING AGENT, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN-FORMING MATERIAL COMPRISING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN AND ARTICLE USING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
JPS6456782CRUSHING AGENT
Inventors:
Mitsuo Hori
Akira Saito
Kei Hori
Application Number:
JP2008550118A
Publication Date:
April 08, 2010
Filing Date:
December 13, 2007
Export Citation:
Click for automatic bibliography generation   Help
Assignee:
as r&d LLC
International Classes:
C09K3/00; B32B27/18
Domestic Patent References:
JP2000281838A2000-10-10
JP2000273435A2000-10-03
JP2002069424A2002-03-08
JP2002012848A2002-01-15
JP2002173663A2002-06-21
JP2004080003A2004-03-11
JP2006124618A2006-05-18
JP2006257235A2006-09-28
JP2003003125A2003-01-08
JP2005126644A2005-05-19
Attorney, Agent or Firm:
Wake Manipulation



 
Previous Patent: STRUCTURE OF LIQUID REDUCER JETTING NOZZLE

Next Patent: AIR COMPRESSOR AND PNEUMATIC TOOL SYSTEM