Title:
パターン形成方法及びそれに用いる樹脂組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2008143301
Kind Code:
A1
Abstract:
（１）第一のレジスト層を選択的に露光した後、現像して第一のパターンを形成する工程と、（２）第一のパターン上に、ベークすることで現像液に対して不溶化又は難溶化する水酸基を有する樹脂、及び溶媒を含有する所定の樹脂組成物を塗布し、ベーク後、洗浄して第二のパターンを形成する工程と、（３）第二のパターンを、全面露光又は選択的に露光することによって部分的に現像液に可溶にした後、現像して、穴及び溝の少なくともいずれかが第二のパターンに形成された第三のパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法である。
Inventors:
Atsushi Nakamura
Tsutomu Shimokawa
Junichi Takahashi
Takeshi Anbu
Tomoki Nagai
Tomohiro Kakizawa
Tsutomu Shimokawa
Junichi Takahashi
Takeshi Anbu
Tomoki Nagai
Tomohiro Kakizawa
Application Number:
JP2009515265A
Publication Date:
August 12, 2010
Filing Date:
May 21, 2008
Export Citation:
Assignee:
JSR CORPORATION
International Classes:
G03F7/40; C08F12/02; C08F20/18; C08F20/56; G03F7/004; G03F7/039; H01L21/027
Domestic Patent References:
| JPH07326562A | 1995-12-12 | |||
| JPH0588375A | 1993-04-09 | |||
| JPH0471222A | 1992-03-05 | |||
| JP2008268742A | 2008-11-06 | |||
| JP2008083537A | 2008-04-10 | |||
| JP2006307179A | 2006-11-09 |
Foreign References:
| WO2005116776A1 | 2005-12-08 |
Attorney, Agent or Firm:
Ippei Watanabe
Koji Kikawa
Chongqing Sugano
Hiroyuki Sato
Shigeru Koike
Koji Kikawa
Chongqing Sugano
Hiroyuki Sato
Shigeru Koike